노광기
- 2005년 세계 최초 양산 라인에 대응
- Direct Imaging 으로 마스크리스 노광 실현
- 압도적 생산성 및 고정밀 고속 노광
- 휨기판 클램프 기능 등 다양한 자동화 기능 탑재
- 다종 다양한 보정 기능으로 고정밀 노광 구현
- 다양한 고객사 현장에서 안정된 가공 실적 보유
제품특징
- Wide Range 오토포커스
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- 기판 굴곡 등의 변화, 빌드업층의 요철에 대응
- DOF 추종성 및 핀트의 정확성
Wide Range 오토포커스
- 얼라인먼트 Retry
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- 마크 위치, 외형 치수 변형 시 기판 위치 자동 보정
- 라인 정지 없이 보정이 가능
- 리젝트 기판 감소로 생산성 향상 극대화
얼라인먼트 Retry
- 다양한 보정 기능 및 자동화
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- 기판 변형 및 위치에 대해 다양한 보정 기능 탑재
- 다양한 노광 데이터 보정 지원
- 기판 클램프 기능 적용 가능
기판 클램프 기능
- One Time Scan / 다이렉트 노광
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- 독자적인 레이저 유닛의 신화상 처리엔진 탑재
- Laser Head를 기판폭으로 라인 배열하여 원타임 스캔 실현
- 초정밀 고속 노광 실현
ADTEC 원타임 스캔 DI 노광 공정
제품라인업
| 모델개요 | IP-4 시리즈 | IP-6 시리즈 | IP-8 시리즈 | IP-10시리즈 |
|---|---|---|---|---|
| IP-4 UH | IP-6 9000H | IP-8 8000H | IP-10 7000H | |
| High-End PKG | High-End PKG | PKG Standard | mSAP | |
| 회로형성용 | 회로형성용 | 회로형성용 | 회로형성용 | |
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| 해상성능 | L/S=5/5μm | L/S=6/6μm | L/S=8/8μm | L/S=10/10μm |
| 얼라인먼트 정도 | ±4μm | ±5μm | ±7μm | ±7μm |
| 출력 LD 광원 | 50W | 40W | 40W | 40W |
| 파장 | 405nm | 405nm | 405nm | 405nm |
| 기판 사이즈 | 508×406 ~ 515×640mm | 334×334 ~ 546×622mm | 334×334 ~ 546×622mm | 334×334 ~ 546×622mm |
| 모델개요 | IP-12 시리즈 | IP-15 시리즈 | ||
|---|---|---|---|---|
| IP-12 6000H | IP-15 LUHS | IP-15 UHS | IP-15 UHT | |
| Stabi Fine | Large Panel | HDI | HDI | |
| 회로형성용 | 회로형성용 | 회로형성용 | 회로형성용 | |
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| 해상성능 | L/S=12/12μm | L/S=15/15μm | L/S=15/15μm | L/S=15/15μm |
| 얼라인먼트 정도 | ±5μm | ±10μm | ±7.5μm | ±7.5μm |
| 출력 LD 광원 | 40W | 54W | 50W | 50W |
| 파장 | 405nm | 405nm | 405nm | 405nm |
| 기판 사이즈 | 334×334 ~ 551×640mm | 483 ×334 ~ 554×640mm | 334×334 ~ 551×640mm | 334×334 ~ 551×640mm |
| 모델개요 | Roll to Roll 시리즈 | IP-35 시리즈 | IS 시리즈 | ||
|---|---|---|---|---|---|
| IP-12 HR/UHR | IP-6 HR | IP-35 1000H | IP-35 L1000H | IS-4000H | |
| FPC R to R | FPC R to R | MLB | Large Panel | Solder Resist | |
| Roll to Roll | Roll to Roll | 회로형성용 | 회로형성용 | 솔더레지스트용 | |
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| 해상성능 | L/S=12/12μm | L/S=6/6μm | L/S=35/35μm | L/S=35/35μm | SRO=φ50μm |
| 얼라인먼트 정도 | ±5μm | ±5μm | ±12μm | ±12μm | ±7.5μm |
| 출력 LD 광원 | 40W/50W | 40W | 40W | 45W | Max 80W |
| 파장 | 405nm | 405nm | 405nm | 405nm | 375nm + 405nm |
| 기판 사이즈 | W200~550×L250~650mm | W200~550×L250~650mm | 334×334 ~ 551×640mm | 483×831 ~ 635×838mm | 334×334 ~ 551×640mm |
- 전자동 컨택 노광기 점유율 국내 90% 이상
- 필요 사양에 따라 선택폭이 다양한 제품 라인업
- 독자적인 U컨택 기술 적용으로 밀착성 우수
- 고해상도, 고생산성, 고정도 얼라인먼트 실현
- 박판, 대판에 대한 안정적인 노광 가능
- 내외층 회로용으로 꾸준한 사랑을 받는 시리즈
제품특징
- 고정도 얼라인먼트
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- 노광 위치 정도 신뢰성 상승 : 노광스테이지상 정합 실시, 노광 직전 재확인 기능
- 형상서치 방식에 따른 화상처리로 마크 인식 능력 향상
- 안분점 방식 및 MMD 방식(마크간 거리 최소법) 적용
- U 컨택 밀착 방식
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- ADTEC의 독자적인 U 컨택 밀착 방식 적용
- 빠르고 균일하며 안정된 밀착 실현
- 분할 노광
(분할 셔터 기능) -
- 적용 모델 : ADEX5300P / ADEX5250P / ADEX4000P
- 노광 영역 이외 영역을 셔터로 차광하여 기판과 마스크의 신축 영향을 최소화
- 2분할, 3분할, 4분할, 6분할 노광 실시
- 오버레이 정밀도 향상
- 스테이지 및 마스크 클리닝 대책
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- 적용 모델 : ADEX5300P / ADEX5250P / ADEX4000P
- 노광기 내부에 클린 롤러 및 집진 노즐 탑재
- 유입 이물의 영향 최소화 및 작업자 클리닝 시간 감소
- 자동 세팅 기능
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- 마스크 마크, 기판 마크, 카메라 위치,기판 반입 위치 자동 등록
- 세팅 시간 대폭 단축으로 생산성 향상
- 고속 기판 반송 기구
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- 진공 흡착에 의한 핸드 반송
- 고정도 리니어 모터 사용으로 고속 핸드 구동
제품라인업
| 모델개요 | 솔더레지스트용 | ||||
|---|---|---|---|---|---|
| ADEX6000S | ADEX5300S | ADEX5250S | ADEX4000S | ADEX3300S/LED | |
| PKG/HDI | HDI | PKG/HDI | HDI | MLB | |
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| 해상성능 | SRO=φ50μm | SRO=φ50μm | SRO=φ50μm | SRO=φ50μm | SRO=φ75μm |
| 얼라인먼트 정도 | ±3μm | ±3μm | ±3μm | ±5μm | ±5μm |
| 광원종류 | 2등식10kW 초고압수은램프 |
2등식10kW 초고압수은램프 |
2등식8kW 초고압수은램프 |
2등식8kW 초고압수은램프 |
* S: 2등식10kW 초고압수은램프 * LED : UV-LED |
| 기판 사이즈(mm) | 535×635 ~ 250×300 | 610x711 ~ 340x410 | 535×635 ~ 250×300 | 535×635 ~ 250×300 | 535×635 ~ 250×300 |
| 모델개요 | 회로형성용 | ||||
|---|---|---|---|---|---|
| ADEX5250P | ADEX5300P | ADEX4000P | ADEX3300P | ADEX3300P-LED | |
| PKG/HDI | HDI | HDI | MLB | MLB | |
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| 해상성능 | L/S=12/12μm(G) L/S=20/20μm(F) |
L/S=30/30μm | L/S=15/15μm(G) L/S=25/25μm(F) |
L/S=30/30μm | L/S=30/30μm |
| 얼라인먼트 정도 | ±3μm | ±3μm | ±3μm | ±5μm | ±5μm |
| 광원종류 | 2등식5kW 초고압수은램프 |
2등식5kW 초고압수은램프 |
2등식5kW 초고압수은램프 |
1등식5kW 초고압수은램프 |
UV-LED |
| 기판 사이즈(mm) | 535×635 ~ 250×300 | 610x711 ~ 340x410 | 535×635 ~ 250×300 | 535×635 ~ 250×300 | 535×635 ~ 250×300 |
| 모델개요 | 내층양면동시노광용 | Roll to Roll | |||
|---|---|---|---|---|---|
| ADEX2300P | ADEX1300P | ADEX2200P | ADEX1200P | AFLX2600P5 | |
| MLB | MLB | MLB | MLB | FPC | |
| 평행광 | 산란광 | 평행광 | 산란광 | - | |
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| 해상성능 | L/S=50/50μm | L/S=75/75μm | L/S=50/50μm | L/S=75/75μm | L/S=12/12μm(G) L/S=20/20μm(F) |
| 얼라인먼트 정도 | ±5μm | ±5μm | ±10μm | ±10μm | ±10μm |
| 광원종류 | 2등식5kW 초고압수은램프 |
2등식10kW 초고압수은램프 |
2등식5kW 초고압수은프 |
2등식5kW 초고압수은램프 |
2등식5kW 초고압수은램프 |
| 기판 사이즈(mm) | 559×635 ~ 254×305 | 559×635 ~ 254×305 | 559×635 ~ 254×305 | 559×635 ~ 254×305 | 롤자재폭 250/500mm |
* (G) : Glass Photo Mask
* (F) : Film Photo Mask
- 패키지용 파인 패턴에 최적화된 차세대 모델 시리즈
- FOWLP, FOPLP용 Direct Exposure 구현
- 최소 L/S 2/2um 대응 (웨이퍼 / 판넬)
- 고정밀 스테이지 채용
- 마이크로 모션 장치 내장의 고정도 광학 시스템
- 분할 얼라인먼트 보정
제품특징
- 고정밀 스테이지
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- Active dumper & Natural bed 채용
- 듀얼 X-axis
- 레이저 간섭계 바 미러 탑재
- 서브 테이블 (Vacumm 테이블) 적용
- 고정도 광학 시스템
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- 마이크로 모션 장치 내장으로 NA, 왜곡, 필드 곡률 개선
- 8W의 광원 출력
- 프로젝션 렌즈 탑재
- 분할 얼라인먼트 보정
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- 로컬 영역에 대한 부분 얼라인먼트
- 초기 256 분할된 로컬 영역 정렬 (DE-8 기준)
- 최종: Die-by-Die 정렬
제품라인업
| 모델개요 | DE 시리즈 | ||
|---|---|---|---|
| DE-2 coming soon | DE-8 P500 | DE-8 W300/P600 | |
| FO-WLP | PKG | Wafer | |
| 회로형성용 | 회로형성용 | 회로형성용 | |
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| 해상성능 | L/S=2/2μm | L/S=8/8μm | L/S=8/8μm |
| 얼라인먼트 정도 | 3σ≦1μm | 3σ ≦ 4μm | │ave│+3σ ≦ 7μm |
| 파장 | 405nm | 405nm | 405nm |
| 기판 사이즈 | 300×300mm / 600×600mm Min：마스크 플레이트로 대응 |
510×610mm Min：마스크 플레이트로 대응 |
Φ200, φ300mm 600×600mm |